高真空多功能离子束溅射与磁控镀膜装置-材料科学与工程中心实验室

发布日期：2019-01-13 浏览量：

　　设　备　名　称：高真空多功能离子束溅射与磁控镀膜装置

　　固定资产编号　：124230

　　设备厂家、型号：沈阳中科仪 FJL600E1

　　负责教师：　　　赵晓华　联系方式:13615277726

　　使用方式：　　　需提前2天预约

功能指标：

制备各种单层或多层金属膜、介质膜、半导体膜。该设备为在材料（金属、非金属）表面制备具有多种特殊性能的膜层的专用设备，是物理气象沉积｛PVD｝这一先进材料技术的必需硬件，可用于进行材料表面改性、表面金属-无机复合、表面镀膜等类型的研究。

技术指标：

限真空度：主溅射室6.6×10-5Pa，进样室5×10-4Pa；可调靶：磁控靶/射频靶，水冷，射频靶2×φ50，直流靶1×φ50；衬底：多片样品，可水冷可加热；结构：主溅射室φ350×280，夹壁水冷。

样品注意事项：

预约时详谈

使用注意事项：

预约时详谈

收费标准：

仪器地点：

备注：

仪器设备